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| 彰化师范大学创意创新创业研究中心主任王信文。（中评社 方敬为摄） |
中评社彰化12月19日电（记者 方敬为）美国要求荷兰ASML公司加入对中晶片禁令，由停止供应EUV设备扩大至DUV设备。彰化师范大学创意创新创业研究中心主任王信文接受中评社访问表示，ASML因此营利损失，企业执行长反弹，加上美、中、日都在发展EUV相关技术，让技术龙头ASML出现危机意识，对中断供更可能加速中方研发技术突围，美国过于紧缩的对中禁令，或现反作用力。
王信文，交通大学管理学博士，彰师大三创暨管理科技研究中心主任、全球管理暨服务科学评论主编。曾任北京大学光华管理学院调研学者、美国柏克莱加州大学访问学者、美国加州大学尔湾分校短期研究员等职，研究专长包括国企跨境电商策略、大数据行销决策、区块链、资通讯5G整合与智慧机械等。
美国持续扩大对中国的半导体技术围堵，近日要求半导体微影曝光设备龙头荷兰ASML公司对中国禁售设备范围从生产先进制程晶片的极紫外光（EUV）微影设备，扩大到次一级的深紫外光（DUV）浸润式微影设备。ASML执行长韦尼克（Peter Wennink）就向媒体埋怨，荷兰政府2019年配合美国禁止ASML出口最先进EUV设备到中国，反而让销售替代技术的美国设备商得利。
针对美国施压ASML设备断供中国，王信文认为，美国过度对中实施半导体技术围堵，可能出现反效果，几个面向可以观察，首先，ASML执行长公开质疑并代表企业立场反弹美国的禁令要求，代表美方强制的行为，已造成业界损害、不满声浪上升。
其次，王信文指出，美国对中的围堵网路紧密，可能促使中国投入更多力道自主研发突围。虽然现在EUV技术是ASML独步全球，是高阶制程晶片所仰赖的途径，但所有技术的研发，不会只有单一路径、方法，其实不同的路径也可能达到相同目的，这是历史经验，观察EUV技术，其实包括美国、中国、日本、韩国、欧洲等地都在设法研发，饱受美国打压的中国华为公司也有相关进展。
他说，上述情况显现，目前虽然只有ASML有办法将EUV技术给实用化，并成为市场技术的领头羊，但是不代表其他公司在未来就无法开展出EUV光刻技术，只是要设法回避专利、技术到位，这个部分相信只要有足够的资金及人才专注投入，发展出来只是迟早的事，经验法则告诉我们，没有一项技术能够永远独步全球。
王信文提到，以华为来讲，从2015年一直到现在，都是美国打压的眼中钉，可是禁令越来越严格，华为转型的进程也越来越积极，近来包括与日本的Canon、Nikon谈技术合作。韩国三星也发布新闻稿，未来将交叉授权98项专利给华为，连同过去陆续的授权，专利授权数量达到上百之多，显示出华为正透过本身的技术立基，持续设法突破美国的禁令围堵。
王信文说，毕竟过去也曾经有人成功做到“类极紫外光”的晶片生产，也就是可以不必依靠ASML的光刻机器设备生产晶片，只是程序比较繁复，生产成本较高，同时在良率、产能上也相对弱势。
不过，他表示，上述例子也就显示，晶片生产未必需要依赖特定厂商的技术或设备，症结在于，如何克服成本、良率、产能等问题。面对中国积极突围外，他国为了绕过ASML各自开展EUV技术的行为，也将使ASML出现危机意识，进而对美方的要求抗拒，这都可能导致反作用力发生。 |
